浙江工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程與材料學(xué)院導(dǎo)師:胡曉君

發(fā)布時間:2021-11-05 編輯:考研派小莉 推薦訪問:
浙江工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程與材料學(xué)院導(dǎo)師:胡曉君

浙江工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程與材料學(xué)院導(dǎo)師:胡曉君內(nèi)容如下,更多考研資訊請關(guān)注我們網(wǎng)站的更新!敬請收藏本站,或下載我們的考研派APP和考研派微信公眾號(里面有非常多的免費(fèi)考研資源可以領(lǐng)取,有各種考研問題,也可直接加我們網(wǎng)站上的研究生學(xué)姐微信,全程免費(fèi)答疑,助各位考研一臂之力,爭取早日考上理想中的研究生院校。)

浙江工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程與材料學(xué)院導(dǎo)師:胡曉君 正文


  姓名:胡曉君
  學(xué)歷/職稱:教授
  所在崗位:碩導(dǎo)
  聯(lián)系方式:0571-88320392
  研究領(lǐng)域:先進(jìn)薄膜材料(金剛石薄膜的制備、摻雜和光電性能)

  教育經(jīng)歷:
  1992/09~1996/07 大連鐵道學(xué)院材料科學(xué)與工程系獲學(xué)士學(xué)位
  1996/09~1999/07 沈陽農(nóng)業(yè)大學(xué)機(jī)械工程系獲碩士學(xué)位
  1999/09~2004/01 上海交通大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院獲博士學(xué)位

  工作簡歷:
  2004/05~2006/09 浙江工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程與材料學(xué)院講師
  2006/09~2011/09 浙江工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程與材料學(xué)院副教授
  2007/03~2008/09 香港城市大學(xué)博士后研究(Research Fellow)
  2011/09~至今 浙江工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程與材料學(xué)院教授

  學(xué)校及社會兼職:
  材料系實(shí)驗(yàn)室主任
  中國材料研究學(xué)會會員

  教學(xué)工作:
  長期擔(dān)任本科生的重要專業(yè)基礎(chǔ)課《材料科學(xué)基礎(chǔ)》的主講教師,擔(dān)任《化學(xué)化工軟件》和《計算機(jī)在材料科學(xué)中的應(yīng)用》等課程的主講教師,取得了良好的教學(xué)效果。2006年獲得學(xué)院青年教師講課比賽一等獎。
  長期主講研究生課程《金屬學(xué)原理》,根據(jù)研究生學(xué)習(xí)的特點(diǎn),在課堂教學(xué)中,開展討論式教學(xué),將學(xué)科前沿研究進(jìn)展與教學(xué)內(nèi)容相聯(lián)系,將研究思路與教學(xué)內(nèi)容相聯(lián)系,將研究方法與教學(xué)內(nèi)容相聯(lián)系,在深化學(xué)生專業(yè)基礎(chǔ)知識的同時,對其研究思路和研究方法進(jìn)行引導(dǎo),為研究生進(jìn)入課題研究奠定基礎(chǔ)。
  指導(dǎo)學(xué)生開展課外科技活動,通過完成課外科技活動項(xiàng)目,培養(yǎng)學(xué)生發(fā)現(xiàn)問題、分析問題和解決問題的能力;培養(yǎng)他們的書面和口頭表達(dá)能力。指導(dǎo)本科生申報和完成了國家級大學(xué)生創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)計劃項(xiàng)目、校級大學(xué)生創(chuàng)新實(shí)驗(yàn)計劃項(xiàng)目和校運(yùn)河杯科技項(xiàng)目等。
  為研究生培養(yǎng)搭建了良好的項(xiàng)目平臺和研究氛圍。對研究生嚴(yán)格要求,精心指導(dǎo),致力于全面提高研究生的專業(yè)素質(zhì)和綜合能力,為高科技產(chǎn)業(yè)輸送人才。近年來培養(yǎng)的碩士生獲得省級優(yōu)秀畢業(yè)生、校級優(yōu)秀畢業(yè)生、校級優(yōu)秀碩士論文、校級運(yùn)河杯課外科技競賽二等獎等榮譽(yù)稱號。

  承擔(dān)的科研項(xiàng)目:
  2010.1-2012.12 國家自然科學(xué)基金面上項(xiàng)目:磷離子注入制備高電導(dǎo)率n型納米金剛石薄膜的研究(項(xiàng)目負(fù)責(zé)人,50972129,35萬元)
  2012.1-2013.12 國家自然科學(xué)基金委-中俄合作交流項(xiàng)目(NSFC-RFBR):磷離子注入納米及微晶CVD金剛石薄膜的制備、微結(jié)構(gòu)和電學(xué)性能研究(項(xiàng)目負(fù)責(zé)人,51211120188,9 萬元)
  2007.01-2009.12 國家自然科學(xué)基金青年基金項(xiàng)目:氧離子注入制備高質(zhì)量低電阻率n 型金剛石薄膜的研究(項(xiàng)目負(fù)責(zé)人,50602039,24 萬元,已結(jié)題)
  2010.01-2012.12 浙江省錢江人才計劃項(xiàng)目:高催化活性納米硼摻雜金剛石薄膜電極的制備 (項(xiàng)目負(fù)責(zé)人,2010R10026,10萬元)
  2010.01-2011.12 留學(xué)回國人員科技活動項(xiàng)目擇優(yōu)資助:硼氧共摻雜n型金剛石薄膜的微結(jié)構(gòu)與電學(xué)性能研究(項(xiàng)目負(fù)責(zé)人,1萬元)
  2006.01~2007.12 浙江省教育廳資助項(xiàng)目“氧離子注入金剛石薄膜的電學(xué)性質(zhì)研究”(項(xiàng)目負(fù)責(zé)人,D1015227,1.5 萬元,已結(jié)題)
  2013年入選浙江省中青年學(xué)術(shù)帶頭人。
  2006 年12 月獲浙江省科協(xié)“育才工程”資助。
  2005 年列入“浙江省151 人才工程”第三層次。
  2004 年被評為浙江工業(yè)大學(xué)首批青年學(xué)術(shù)骨干。

  主要論文目錄:
  1.X.J. Hu*, X. H. Chen, and J. S. Ye, The roles of hydrogen in the diamond/amorphous carbon phase transitions of oxygen ion implanted ultrananocrystalline diamond films at different annealing temperatures, AIP Advances 2, 2012, 042109
  2.X.J. Hu*, J. S. Ye, H. Hu, X. H. Chen, Y. G. Shen, Phosphorus ion implantation and annealing induced n-type conductivity and microstructure evolution in ultrananocrystalline diamond films, Appl. Phys. Lett. 99, 2011, 131902
  3.X.J.Hu*, J.S. Ye, H.J. Liu, Y.G. Shen, X.H. Chen, H. Hu, n-type conductivity and phase transition in ultrananocrystalline diamond films by oxygen ion implantation and annealing, J. Appl. Phys. 109, 2011, 053524
  4.X.J. Hu, Y.G. Shen, The roles of grain boundary and interfacial energies in the grain growth of nanocomposite films, Appl. Phys. Lett, 94, 2009, 093111 (IF: 3.977) (入選“The American Institute of Physics”和“The American Physical Society”聯(lián)合出版的雜志:Virtual Journal of Nanoscale Science & Technology, 19(11), 2009.)
  5.X.J. Hu, Z.J. Liu, Y.G. Shen, Mechanisms of amorphous-phase-dependent grain growth in two-phase nanocomposite films: A Monte Carlo analysis, Appl. Phys. Lett, 92, 2008, 021910 (IF: 3.977) (入選“The American Institute of Physics”和“The American Physical Society”聯(lián)合出版的雜志:Virtual Journal of Nanoscale Science & Technology, 17(5), 2008.)
  6.X.J. Hu, J.S. Ye, S. Mariazzi, R.S. Brusa, A Positron annihilation study on the defect properties of doped diamond films, Thin Solid Films, 516, 2008, 1699-1702 (IF: 1.666)
  7.X.J. Hu, R.B. Li, H.S. Shen, Y.B. Dai, X.C. He, The electrical and structural properties of boron and phosphorus co-doped diamond films, Carbon, 42 (8-9), 2004, 1501-1506 (IF: 3.120)
  8.X.J. Hu*, J.S. Ye, H.J. Liu, H. Hu, X.H. Chen, The influences of oxygen ion implantation on the structural and electrical properties of B-doped diamond films, Diamond and Related Materials, 20, 2011, 246-249
  9.X.J. Hu, Y.G. Shen, X.P. Hao, B.Y. Wang, The structural properties of B-O codoped diamond films, Diamond & Related Materials, 18, 2009, 210 (IF:1.788)
  10.X.J. Hu, Y.H. Lu, Y.G. Shen, The grain size distribution in nanocomposite films, Solid State Communications, 149, 2009, 903. (IF:1.66)
  11.X.J. Hu, J.S. Ye, Q.S. Lu, G.Q. Zheng The structural properties of O and B-O ion implanted diamond films, The society of photo-optical instrumentation engineering (SPIE), 6984, 2008, 69840Q (ISTP)
  12.X.J. Hu, J.S. Ye, G.Q. Zheng, H.Z. Cao, H.C. Tan, The influences of oxygen ion implantation on the electrical and structural properties of diamond films, Chinese Physics 15(9), 2006, 2170-2174, (IF:1.497)
  13.X.J. Hu, Y.B. Dai, H.S. Shen, X.C. He, A molecular dynamics simulation on the structural properties of Band N co-existed in diamond, Physica B, 367, 2005, 86-91 (IF:0.908)
  14.X.J. Hu, Y.B. Dai, H.S. Shen, X.C. He, Molecular dynamics simulation on boron diffusion in diamond, Solid State Communications,132(8), 557-560, 2004 (IF:1.602)
  15.X.J. Hu, Y.B. Dai, H.S. Shen, Z.M. Zhang, R.B. Li, X.C. He, A molecular dynamics study of interstitial boron in diamond, Physica B, 327, 2003, 39-42 (IF: 0.908)
  16.X.J. Hu, Y.B. Dai, H.S. Shen, Z.M. Zhang, R.B. Li, X.C. He, The diffusion of vacancy near a diamond (001) surface, Solid State Communications, 122, 2002, 45-48 (IF: 1.602)

  專利:
  1.胡曉君,一種n型納米金剛石薄膜及制備方法,中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局,申請?zhí)枺篫L200910155306.3,中國,2009/12/16.已授權(quán)。
  2.胡曉君*,劉會君,一種硼摻雜納米金剛石薄膜及制備方法,專利申請?zhí)枺?01010295654.3
  3.胡曉君,一種高遷移率n型納米金剛石薄膜及制備方法,申請?zhí)枺?01210594869.4,申請日:2012年12月31日

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